產(chǎn)品介紹

特征

• 布賴特光柵

布賴特光學(xué)系統(tǒng)是通過HORIBA Jobin Yvon制造的一個(gè)巨大的，直徑為70 mm的偏差糾正凹面光柵而實(shí)現(xiàn)的。凹面光柵本身的聚光能力使其具有 比短焦距車爾尼特納型光譜儀更為明亮的一套簡易光學(xué)系統(tǒng)架構(gòu)，并且可以小化因?yàn)殓R面及其他反射面造成的反射損失。

• 背光式CCD傳感器可以提供高靈敏度和高分辨度的2048個(gè)光學(xué)通道。

背光式CCD可以達(dá)到高量子效率，確保從紫外光到可見光之間的寬波段范圍內(nèi)獲得穩(wěn)定的分光鏡使用。高靈敏度的測量在紫外光波段，特別是在那些較少受到干擾影響的波長范圍，使終點(diǎn)監(jiān)測成為可能。

• 專為*制程控制而準(zhǔn)備的Sigma-P軟件

應(yīng)制程控制的要求，此軟件可以執(zhí)行多種工序，從等離子體現(xiàn)象分析到測量數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫創(chuàng)建和生產(chǎn)設(shè)備的遠(yuǎn)程遙控。測量工序的可編程架構(gòu)設(shè)計(jì)使其可以對(duì)多重監(jiān)測和時(shí)序處理進(jìn)行設(shè)定。它賦予檢測器不僅可以被用于終點(diǎn)監(jiān)測，同時(shí)也可以被廣泛的用于等離子體環(huán)境下的監(jiān)測。

• 這是一種對(duì)于等離子體異常情況進(jìn)行報(bào)警的*設(shè)計(jì)，也可以通過利用2種波長之間的變換系數(shù)來指導(dǎo)終點(diǎn)測量。
• 全回收功能

一旦收集到光譜學(xué)的數(shù)據(jù)后，對(duì)制程優(yōu)化或者終點(diǎn)監(jiān)測的模擬可以通過應(yīng)用新的制程設(shè)計(jì)反復(fù)進(jìn)行。

 

• 一個(gè)用于識(shí)別等離子中發(fā)光類別的數(shù)據(jù)庫已經(jīng)包含在內(nèi)
• 光譜學(xué)數(shù)據(jù)可以轉(zhuǎn)換成一個(gè)時(shí)距記錄曲線圖，或者可以通過屏幕格式，把操作波形，比對(duì)參考數(shù)據(jù)獲得的相對(duì)計(jì)算波形和其他信息顯示出來。
• 為時(shí)間記錄圖分析而準(zhǔn)備的自動(dòng)圖形軟件

從巨大并伴隨干擾的光譜數(shù)據(jù)中發(fā)現(xiàn)細(xì)微的圖形差異是一個(gè)艱巨的挑戰(zhàn)。自動(dòng)圖形軟件將自動(dòng)地找到圖形變化的特征并測定為合適的終點(diǎn)波長。

• 強(qiáng)大的終點(diǎn)數(shù)學(xué)模型。
• 通過使用客戶波長范圍的計(jì)算波形和過濾系統(tǒng)，終點(diǎn)可以被準(zhǔn)確的發(fā)現(xiàn)。在接近2個(gè)區(qū)域的2條直線的交叉點(diǎn)，發(fā)展的數(shù)學(xué)模型賦予機(jī)臺(tái)穩(wěn)定的監(jiān)測細(xì)微變化的性能。此功能確保各點(diǎn)的變化準(zhǔn)確地從干擾中被區(qū)分出來，正如終點(diǎn)在微小開放區(qū)域內(nèi)的細(xì)號(hào)變化，都能被準(zhǔn)確的監(jiān)測。
• 超出微小開放區(qū)域（<0.2%）的蝕刻監(jiān)測。

當(dāng)頻率率波器將干擾信號(hào)從原始信號(hào)中過濾掉后，不同信號(hào)（粉色線）在圖形中的比率（黑色線）變化（上升（A+B+C）/減小（D+E+F））可以使我們準(zhǔn)確監(jiān)測到終點(diǎn)的位置。

• 制程設(shè)計(jì)，一種伴隨分析結(jié)果同步自動(dòng)完成的制程生成軟件（選擇項(xiàng)軟件）
• 制程設(shè)計(jì)是自動(dòng)圖形分析工具的一種衍生版本。它賦予使用者通過在顯示器上實(shí)時(shí)的分析和模擬，生成數(shù)學(xué)模型。這種數(shù)學(xué)模型可以很容易地被構(gòu)建到真實(shí)的制程里。對(duì)于那些微弱和復(fù)雜的發(fā)光類別型的終點(diǎn)監(jiān)測， 或者因制程條件的變化而不能被發(fā)現(xiàn)的終點(diǎn)監(jiān)測，或者類似情況，這種設(shè)計(jì)可以使制程研制的負(fù)擔(dān)大大減輕。
• *步：自動(dòng)分離出波長變化的圖形；
• 第二步：使用接近的2條直線，鑒定出變化點(diǎn)；
• 第三步：通過完整的數(shù)學(xué)模型進(jìn)行的EDP模擬管理可以被輸出和構(gòu)建到Sigma-P中；*的統(tǒng)計(jì)處理：反饋給制程。
• 統(tǒng)計(jì)處理編輯可以從大量不同的視圖中分析日志數(shù)據(jù)，幫助提高異常分析和缺陷率。分析的結(jié)果可以被反饋到測量當(dāng)中。